El grafeno es un material que podría reemplazar al silicio en el proceso de fabricación de semiconductores y procesadores. Este nuevo material podría revolucionar el mundo de la tecnología y ya tenemos pruebas del impacto que tendría la incorporación de este material en el mundo de la electrónica. En febrero del 2010, IBM presentó, un procesador fabricado con grafeno que alcanzaba los 100GHz. Hasta ahora era muy costoso fabricar este tipo de material, pero gracias a un trabajo conjunto, científicos del Instituto de Química y Física de la Academia Polaca de Ciencias (IPC PAS) en Varsovia y del Instituto de Investigación Interdisciplinaria (IRI), en Lille (Francia), lograron desarrollar un método de fabricación se bajo coste para la fabricación de grafeno.
Los científicos aseguran que el método desarrollado podría ser implementado en cualquier laboratorio del planeta. Los investigadores indican que para obtener grafeno de forma económica se requeriría solo de un limpiador ultrasónico, un dispositivo que hoy se puede encontrar en la mayoría de laboratorios.
El nuevo procedimiento para obtener grafeno es, al parecer, sencillo. Los investigadores publicaron en la revista Chemical Communications el método para obtener el material. Los científicos explican que para obtener grafeno a partir del grafito se oxidó el grafito y el polvo obtenido se suspendió en agua, para luego colocarlo en un limpiador ultrasónico. Gracias a este procedimiento se obtuvieron escamas de óxido de grafeno con un espesor de aproximadamente 300 nanómetros.
Ahora el trabajo de los investigadores está enfocado en lograr reducir el espesor del grafeno.