O grafeno é um material que poderia substituir o silício no processo de fabricação de semicondutores e processadores. Este novo material poderia revolucionar o mundo da tecnologia e já há provas do impacto que teria a incorporação deste material no mundo da eletrônica. Em fevereiro de 2010, a IBM apresentou um processador fabricado com grafeno que alcançava os 100GHz. Até agora era muito caro fabricar este tipo de material, mas, graças a um trabalho conjunto entre cientistas do Instituto de Química e Física da Academia Polonesa de Ciências (IPC PAS ) de Varsóvia e do Instituto de Pesquisa Interdisciplinar (IRI), em Lille (França), foi possível desenvolver um método de fabricação de grafeno a um baixo custo.
Os cientistas asseguram que o método desenvolvido poderia ser implementado em qualquer laboratório do planeta. Os pesquisadores indicam que, para obter grafeno de forma econômica, é necessário apenas um limpador ultrassônico, um dispositivo encontrado na maioria dos laboratórios.
O novo procedimento para se obter o grafeno é, ao que parece, simples. Os pesquisadores publicaram na revista Chemical Communications o método para obter o material. Os cientistas explicam que, para obter grafeno a partir do grafite, oxidou-se o material e o pó obtido ficou suspenso em água, para logo em seguida, ser colocado em um limpador ultrassônico. Graças a este procedimento, foram obtidas escamas de óxido de grafeno com uma espessura de aproximadamente 300 nanômetros.
Agora o trabalho dos pesquisadores está focado em reduzir a espessura do grafeno.